Nanoscribe工業級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術要點

這項突破性的技術將微納增材制造和超高速體素大小調節結合在一起：雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿足自由形態的微加工技術，同時又不影響速度和精度。

Quantum X通過實時調制激光功率的技術在掃描平面上控制體素的大小。通過這種方式，具有復雜幾何形狀的結構可以被制造出來，同一物體中跨尺度的細節能夠實現一步打印。無論是離散的，還是連續的復雜結構均可以在最大可達6英寸的晶圓片基板上精細打印，而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 - 多種*智能化解決方案：
·配備自動識別匹配不同物鏡，樣品架以及樹脂的功能，有助于樣品制備和硬件配置之間的切換，從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向導功能，以簡化從初準備到創建打印作業的整個流程。

·配備三個實時監控攝像頭可同時監管打印作業并支持直觀操作。現在用戶可以直接在內置觸控屏上隨時檢查作業狀態，控制打印過程并可隨時顯示和調整打印效果。

技術參數
產地：德國全進口

打印技術：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s